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產(chǎn)品中心實驗室常用設(shè)備、化行業(yè)工設(shè)備其他實驗室化工設(shè)備GH/ETD-2000C北京離子濺射/蒸碳一體機
北京離子濺射/蒸碳一體機
產(chǎn)品簡介
product
產(chǎn)品分類| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|
離子濺射/蒸碳一體機 濺射蒸碳儀
型號：GH/ETD-2000C
北京離子濺射/蒸碳一體機配置參數(shù)如下：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實驗電極制作。
配置參數(shù)如下：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實驗電極制作。
配置參數(shù)如下：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實驗電極制作。
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